에스앤에스텍(101490)은 31일 하프톤형 위상반전 블랭크 마스크ㆍ포토 마스크 및 그의 제조방법에 관한 특허권을 취득했다고 공시했다.
회사측은 "반도체 제조용 블랭크 마스크 제품의 기술경쟁력을 향상시킬 예정"이라고 설명했다.
jemmie@heraldcorp.com
에스앤에스텍(101490)은 31일 하프톤형 위상반전 블랭크 마스크ㆍ포토 마스크 및 그의 제조방법에 관한 특허권을 취득했다고 공시했다.
회사측은 "반도체 제조용 블랭크 마스크 제품의 기술경쟁력을 향상시킬 예정"이라고 설명했다.