테스는 반도체소자 제조방법에 관한 특허권을 취득했다고 16일 공시했다.

회사측은 “이번 특허는 질화티타늄 패턴 식각시 손상없이 아몰퍼스 실리콘막 또는 폴리 실리콘 막을 식각할 있으며 자연적으로 형성되는 실리콘 산화막을 보다 용이하게 식각할 수 있어 반도체 제조시 식각 효율성을 향상 시킬 수 있다”고 설명했다.


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