테스는 반도체소자 제조방법에 관한 특허권을 취득했다고 16일 공시했다.
회사측은 “이번 특허는 질화티타늄 패턴 식각시 손상없이 아몰퍼스 실리콘막 또는 폴리 실리콘 막을 식각할 있으며 자연적으로 형성되는 실리콘 산화막을 보다 용이하게 식각할 수 있어 반도체 제조시 식각 효율성을 향상 시킬 수 있다”고 설명했다.
test10043@heraldcorp.com
테스는 반도체소자 제조방법에 관한 특허권을 취득했다고 16일 공시했다.
회사측은 “이번 특허는 질화티타늄 패턴 식각시 손상없이 아몰퍼스 실리콘막 또는 폴리 실리콘 막을 식각할 있으며 자연적으로 형성되는 실리콘 산화막을 보다 용이하게 식각할 수 있어 반도체 제조시 식각 효율성을 향상 시킬 수 있다”고 설명했다.