에스폴리텍은 패턴형 도광판의 제조시스템에 관한 특허권을 취득했다고 14일 공시했다.

회사측은 “고순도의 PMMA와 광확산제를 사용하여 광학적 특성을 저하하는 이물, 기포, 흑점, 패턴 전사율 저하 및 두께 편차 등의 발생을 해결해 휘도가 우수하고 균일한 패턴형 도광판의 제조시스템에 관한 것”이라고 설명했다.


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