테스(095610)는 실리콘 산화막의 건식 식각 방법에 관한 특허권을 취득했다고 3일 공시했다.
회사측은 “이번 특허는 기판상에 파티클이 형성되는 것을 방지할 수 있으며 식각 효율성을 극대화해 공정 비용을 절감할 수 있는 이점이 있다”고 설명했다.
test10043@heraldcorp.com
테스(095610)는 실리콘 산화막의 건식 식각 방법에 관한 특허권을 취득했다고 3일 공시했다.
회사측은 “이번 특허는 기판상에 파티클이 형성되는 것을 방지할 수 있으며 식각 효율성을 극대화해 공정 비용을 절감할 수 있는 이점이 있다”고 설명했다.