원익IPS는 가스 분사 장치 및 이를 구비하는 기판 처리 장치에 관한 특허권을 취득했다고 3일 공시했다.

회사측은 “이번 특허는 반도체 제조 장치에서 가스 분사 장치에서 공급되는 공정 가스의 흐름을 원할하게 하고 파티클 발생을 억제하기 위한 기술이며 당사 반도체 장비에 적용하여 경쟁력 강화에 활용할 계획”이라고 밝혔다.


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