[헤럴드경제=증권팀] 테스는 기판처리장치에 관한 특허권을 취득했다고 22일 공시했다.

회사측은 “공정 진행시 챔버 내에서 대칭적인 반응공간을 형성하여 가스의 흐름과 배기를 대칭적이면서 균일하게 하여 막의 균일성을 향상시킬 수 있다”면서 “반도체 장비에 기술 적용하고 R&D활동에도 응용하여 제품경쟁력 강화에 활용할 계획”이라고 밝혔다.


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