- 반도체용 PSM 블랭크마스크 기술 FPD에 적용 양산

- 고해상도 디스플레이 시장 대응

[헤럴드경제=이진용 기자] 국내 블랭크마스크 전문업체인 에스앤에스텍(대표 남기수ㆍ101490)은 국내 최초로 FPD용 PSM 블랭크마스크 양산에 성공했다고 28일 밝혔다.

블랭크마스크란 반도체 및 평판디스플레이 (FPDㆍFlat Panel Display) 공정재료인 포토마스크의 원재료로서, 석영유리기판 위에 회로패턴이 형성 되기 전 차광막, 반사방지막, 감광막 등이 적층된 마스크를 말한다.

PSM(phase Shift Mask) 블랭크마스크는 반도체용 마스크에서 이미 적용되던 기술로 빛의 위상을180도 전환시켜 노광 시 손실되거나 변형되는 빛을 최대한 막아 미세 패턴을 선명하게 구현할 수 있는 최첨단 마스크 기술이다.

에스앤에스텍은 이미 반도체용 PSM 블랭크마스크를 공급, 기술력을 인정 받아왔으나 그 동안 대면적 디스플레이용으로는 빛의 투과율 등 광학적 특성을 균일하게 유지하는 것이 어려워 양산에 어려움이 있었다.

그러나 이번에 FPD용 PSM 블랭크마스크 양산에 성공함으로써 LCD, OLED 등 디스플레이에 적용 시 전보다 뛰어난 고해상도 디스플레이 생산이 가능하다.

에스앤에스텍은 PSM 블랭크마스크를 국내 포토마스크 고객사에 납품해 우수한 품질을 인정 받은 만큼 앞으로 고해상도 디스플레이 시장에 진출할 수 있을 것으로 기대했다.

에스앤에스텍 관계자는 “그 동안의 다양한 블랭크마스크 기술 노하우를 살려 LCD, OLED 등 대형 고해상도 디스플레이용 공정재료 양산을 준비해왔다” 며 “고해상도 디스플레이 시장이 개화됨에 따라 FPD용 PSM 블랭크마스크가 회사의 매출증대에 기여 하는 새로운 성장 동력이 될 것”이라고 전했다.

▶용어설명

1. 블랭크 마스크(Blank Mask)

반도체 및 FPD 공정 핵심재료인 포토마스크의 원재료로 패턴이 노광되기 전의 마스크를 말한다. 석영유리기판 위에 금속박막 필름이 증착되고 그 위에 감광액이 도포된 형태로 이루어져 있다. 일반적으로 사용 목적에 따라 반도체 IC용 블랭크 마스크와 FPD용 블랭크마스크로 나뉘어진다.

에스앤에스텍은 일본기업이 과점 해오던 블랭크마스크 시장에 성공적으로 진출함으로써 국내 유일의 블랭크마스크 생산업체이자 세계 3대 블랭크마스크 전문 업체로 알려져 있다.

2. 포토마스크(Photo Mask)

블랭크마스크에 노광, 현상 및 식각 공정을 이용하여 반도체 및 TFT-LCD 의 회로패턴을 물리적으로 형상화 한 네거티브 필름 또는 유리를 말한다.

3. 노광

빛을 이용해 마스크상에 설계된 회로 패턴을 웨이퍼 상에 구현하는 기술을 말한다.

4. 식각

칩을 만드는 한 과정으로, 칩의 특정부분에서 이산화실리콘 같은 불필요한 물질을 화학적으로 제거하는 작업을 말한다.

5. PSM(phase Shift Mask) : 위상변조 마스크

노광 공정 시 발생하는 빛의 회절현상, 간섭현상 등을 보정하기 위해 빛의 위상을 180도 전환시키는 phase shift(위상변조) 박막패턴을 포함시킨 마스크를 말한다. 더욱 미세한 패턴 형성이 가능하다.