［헤럴드경제=김대우 기자］반도체 재료장비업체인 에프에스티(FST)가 반도체 고집적화 추세에 따른 차세대 반도체 공정으로 연구개발중인 ‘극자외선 신노광기술(EUV litho) 공정’이 올해 양산에 들어갈 것으로 기대되고 있다.

회사 관계자는 “반도체 고집적화 추세에 따라 13.5nm 파장을 적용하는 EUV litho공정기술개발을 위한 연구개발을 진행중”이라며 “연내 반도체 생산 공정에 적용될 것으로 기대하고 있다”고 26일 밝혔다. 에프에스티가 연구개발중인 과제는 EUV litho공정에 연관되는 다양한 물질(Material) 및 공정 특성을 파악하기 위한 EUV Infrastructure로 극자외선 발생 장치(EUV light source)가 필요하다. EUV Litho공정은 인텔, 삼성의 ASML 투자로 무어의 법칙 연장에 필수적인 향후 반도체 기술의 핵심으로 부각되고 있다.

이에 앞서 에프에스티는 차세대 반도체 노광 공정인 EUV Litho의 Infrastructure용 광원인 EUVO를 개발, 국내 기업 및 대학에 EUV Metrology용 광원으로 판매했고, 국내외 EUV 전문기관에서 좋은 평가를 받은 바 있다. EUVO는 EUV Light를 제공하는 세계최고 품질의 EUV Infrastructure용 광원으로 지식경제부가 선정하는 2012 세계일류상품에 ‘차세대 세계 일류상품’으로 선정되기도 했다.세계일류상품은 지식경제부가 연간 세계시장 규모 5000만 달러 이상인 제품 중 세계 시장점유율 5% 이상, 5위 이내의 제품을 선정하는 제도로 2001년부터 시행되고 있다.

향후 EUVO는 EUV 계측장비(EUV 반사계, 간섭계, Defect review system)등에 적용될 수 있고, EUV Optic 및 EUV PR 등의 Performance test로도 활용될 수 있다. 국내시장 규모는 2014년 연간 20대로 약 200억 규모이며, 2015년에는300억원 대로 성장이 예상된다. 에프에스티는 EUVO 뿐만 아니라 차세대 노광 공정에 필요한 여러 응용(application)의 연구개발을 통해 EUV의 양산 적용에 맞춰 세계 최고의 EUV 솔루션(solution) 제공자로 자리매김하기 위해 전사적인 역량을 집중하고 있다.

한편 에프에스티는 지난해 4분기 이후 확연히 턴어라운드 국면으로 접어든 것으로 보인다. 회사 관계자는 “올해 매출을 1000억원 정도로 잡고 있으며, 보수적으로 잡더라도 800억원 이상을 충분히 달성 가능할 것”이라고 밝혔다. 회사측은 내년 영업이익률은 10%정도를 예상했다. 동종업계 대비 현저한 저평가 상태다. 회사측은 저평가 국면을 해소하기 위해 소규모 IR도 계획중에 있으며 최근 기관과 애널리스트 탐방이 2월 달까지 줄을 잇고 있어 저평가 국면을 해소와 관련해 주목된다.

에프에스티는 2013년도 예상매출은 2012년(매출액 652억) 대비 3~5% 정도 늘어날 것으로 예상했다. 672억원 정도라는 얘기인데 2013년 3분기 누적 매출 432억임을 감안하면 4분기 예상 매출만 240억원으로 분기매출 사상최대를 기록하게 되는 셈이다. 영업이익은 50억원으로 3분기 누적 영업이익 26억원을 빼면 4분기에만 영업이익 24억원을 달성하는 것이다.

회사 관계자는 “연초 기대치 매출 800억이상, 영업이익100억이상 보다 낮아진 것은 외부적 요인보다 공장이전 등 내부적 요인에 의한 비용증가(수율,판관비 등) 때문”이라며 “하지만 하반기 이후 매출 및 이익이 점진적으로 개선됐고 올해에는 악재 해소 및 반도체 전망 호조 등으로 매출액 1000억원에, 영업이익률 10% 이상 달성 가능할 것”이라고 설명했다.

에프에스티는 포토마스크용 보호막인 펠리클(Pellicle)과 온도조절장비인 칠러(Chiller)를 주력으로 생산하는 업체로 펠리클의 경우 국내유일의 제조업체로이며 내수시장 점유율 80%라는 독점적인 지위를 누리고 있다. 최근 몇년동안 공장확장 이전으로 인해 수율이 낮아졋고 판관비 및 연구개발비 증가로 인해 실적이 둔화되었으나 작년 하반기 부터 실적이 눈에띄게 개선되고 있다.