나노종합기술원 연구원이 반도체 핵심소재 감광제 도포장비를 작동하고 있다.[나노종합기술원 제공]
나노종합기술원 연구원이 반도체 핵심소재 감광제 도포장비를 작동하고 있다.[나노종합기술원 제공]

[헤럴드경제=구본혁 기자] 나노종합기술원은 반도체 소부장 지원역량 강화를 위한 12인치 반도체 20나노 미세패턴 공정기술 개발에 성공했다고 30일 밝혔다.

나노종기원은 공정별 전문가로 구성된 TF을 구성해 공정기술 개발을 추진한 결과, 6개월만에 추가적 장비투자 없이 20나노 미세패턴 공정기술을 개발했다.

개발한 공정기술은 기구축 장비를 활용한 공정기술(노광, 식각, 박막 등) 개발과 집적화를 통해 이뤄졌다. 12인치 핵심장비(ArF Immersion Scanner)의 40나노 노광공정과 식각공정 등을 기반으로, SADP(Self-Aligned Double Patterning) 기술을 개발해 20나노 미세패턴을 구현했다.

특히 추가적인 장비투자 없이 자체 보유한 12인치 반도체 장비만을 통하여 구현된 기술로 200억원 이상의 예산절감, 개발기간 단축과 집적도를 4배 높일 수 있는 공정기술을 확보하였다는 데 큰 의의가 있다.

나노종기원은 기술원은 개발된 공정기술을 20나노 미세패턴을 활용할 국내 반도체 소재(감광제, 반사방지막 등) 기업과 장비기업의 서비스 수요에 활용, 이를 통해 서비스 영역 확장을 추진할 계획이다.

이조원 나노종합기술원 원장은 “이번 공정기술 개발은 기술원의 12인치 반도체 테스트베드 활용도를 획기적으로 높일 수 있는 성과로, 향후 국내 반도체 대기업 및 소부장 기업과의 연계와 협력을 기반으로 반도체 강국 구현을 위한 공공 테스트베드의 역할과 책임을 더욱 강화해 나가겠다”고 밝혔다.


nbgkoo@heraldcorp.com