- R&D 73조 ‘최다’…시스템반도체 인력 양성 집중 - 화성 EUVㆍ신규 라인 등 생산시설도 60조 투자 - 중소업체와 협력…비메모리 산업 생태계 강화도 - 이재용 “비메모리도 1위” 액션플랜 본격 가동

[헤럴드경제=천예선 기자] 삼성전자가 24일 내놓은 ‘반도체 비전 2030’에는 시스템 반도체 분야에 2030년까지 133조원을 투자하고 전문인력 1만5000명을 채용한다는 청사진이 담겼다.

삼성전자는 시스템 반도체 사업경쟁력 강화를 위해 2030년까지 국내 연구개발(R&D) 분야에 73조원, 최첨단 생산 인프라에 60조원을 투자할 방침이다.

삼성전자의 이날 발표는 메모리반도체 분야에서 부동의 1위를 유지하고 있지만 비메모리반도체 분야에서는 존재감이 크지 않다는 위기의식이 작용한 것으로 보인다.

비메모리반도체는 전체 반도체 시장의 65%를 차지할 만큼 비중이 크지만 한국의 시스템반도체 등 비메모리 부문 시장점유율은 3~4%에 그친다.

실제 삼성전자 반도체 매출에서 시스템LSI가 차지하는 비중은 17.3%(작년 4분기)로 20%에도 못 미치는 수준이다.

이에 삼성전자는 ‘반도체 비전 2030’을 통해 메모리 반도체 뿐만 아니라 시스템 반도체 분야에서도 글로벌 1위를 달성하겠다는 목표를 분명히 했다.

앞서 이재용 삼성전자 부회장은 연초 홍영표 더불어민주당 원내대표와 여당 지도부를 만나 ‘비(非)메모리 반도체’ 분야 육성을 밝힌 바 있다.

이 부회장은 당시 “2030년까지 비메모리 1위를 목표로 비메모리인 파운드리 사업을 미래성장 동력으로 육성하겠다”고 강조했었다.

이번 ‘반도체 비전 2030’의 전체 투자액 가운데 가장 큰 비중을 차지하는 것이 R&D인 것도 의미가 크다.

73조원에 달하는 R&D 투자금액은 국내 시스템 반도체 연구개발 인력 양성에 기여할 것으로 기대된다.

생산시설 확충에도 60조원이 투자돼 국내 설비ㆍ소재 업체를 포함한 시스템 반도체 생태계 발전에도 긍정적인 영향이 예상된다.

삼성전자는 향후 화성캠퍼스 신규 EUV라인을 활용해 생산량을 증대하고, 국내 신규 라인 투자도 지속 추진할 계획이다.

아울러 국내 팹리스(반도체 설계 전문) 업체를 지원하는 등 상생협력을 통해 한국 시스템 반도체 산업생태계를 강화한다.

삼성전자 관계자는 “국내 중소 팹리스 고객들이 제품 경쟁력을 강화하고 개발기간도 단축할 수 있도록 인터페이스IP, 아날로그 IP, 시큐리티(Security) IP 등 삼성전자가 개발한IP(Intellectual Property, 설계자산)를 호혜적으로 지원할 것”이라고 밝혔다.

아울러 보다 효과적으로 제품을 개발할 수 있도록 삼성전자가 개발한 설계ㆍ불량 분석 툴(Tool) 및 소프트웨어 등도 지원할 계획이다.

이는 소품종 대량생산 체제인 메모리 반도체와 달리, 다품종 소량생산이 특징인 시스템 반도체 분야의 국내 중소 팹리스업체가 지금까지 수준 높은 파운드리 서비스를 활용하는데 어려움이 있는 현실을 적극 반영한 것이다.

삼성전자는 이같은 어려움을 해소하기 위해 반도체 위탁생산 물량 기준도 완화해 국내 중소 팹리스업체의 소량제품 생산을 적극적으로 지원할 계획이다.

이밖에 국내 중소 팹리스 업체의 개발활동에 필수적인 MPW(Multi-Project Wafer)프로그램을 공정당 연 2~3회로 확대 운영하고 국내 디자인하우스 업체와의 외주협력도 확대해 나갈 계획이다.


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