［헤럴드경제=김대우 기자］반도체 재료장비업체인 에프에스티(FST)가 지난 4분기에 깜짝놀랄만한 실적을 기록한데 이어 올해 매출 1000억원이 기대되는 등 완벽하게 턴어라운드에 성공하면서 제2 도약의 해를 앞두고 있다.

회사 관계자는 “2013년도 매출은 2012년(652억) 대비 3~5% 정도 늘어난 670억원대로, 영업이익률은 10%에 조금 못미치는 50억원대로 예상하고 있다”고 28일 밝혔다.

이 회사의 2013년 3분기 누적 매출액이 432억원이었던 것을 감안하면 지난 4분기에만 240억원 가량의 매출을 올려 분기매출 사상최대를 기록하게 되는 셈이다. 영업이익의 경우 보수적으로 50억원으로 잡더라도 3분기 누적 영업이익 26억원을 빼면 4분기에만 24억원의 영업이익을 달성하는 되는 것이다.

회사측은 이어 “올해 매출을 많게는 1000억원, 보수적으로 잡더라도 800억원 이상은 충분히 달성 가능할 것”이라며 영업이익률 10%정도를 예상했다. 지난해 초 예상매출 800억이상, 영업이익100억이상 보다 실적이 낮아진 것에 대해서는 “외부적 요인보다 공장이전 등 내부적 요인에 의한 비용 증가(수율,판관비 등) 때문”이라며 “하지만 하반기 이후 매출 및 이익이 점진적으로 개선됐고 올해에는 악재 해소 및 반도체 전망 호조 등으로 목표 달성에 큰 무리가 따르지 않을 것”이라고 덧붙였다. 지난해 4분기 이후 완벽한 턴어라운드 국면에 접어든 것으로 풀이된다.

시장에서는 에프에스티의 영업이익률에 견주어 주가가 동종업계 대비 현저한 저평가 상태로 분석하고 있다. 회사측은 “주가 저평가 국면을 해소하기 위해 앞으로 소규모 IR행사를 자주 가질 계획”이라며 “기관과 애널리스트 탐방이 2월 달까지 줄을 잇고 있다”고 밝혔다. 저평가 국면을 해소와 관련해 주목되는 대목이다.

에프에스티는 포토마스크용 보호막인 펠리클(Pellicle)과 온도조절장비인 칠러(Chiller)를 주력으로 생산하는 업체로 펠리클의 경우 국내유일의 제조업체이며 내수시장 점유율 80%라는 독점적인 지위를 누리고 있다. 최근 몇년동안 공장확장 이전으로 인해 수율이 낮아졌고 판관비 및 연구개발비 증가로 인해 실적이 둔화되었으나 작년 하반기부터 실적이 눈에띄게 개선되고 있다.

또한 차세대 성장동력으로 키우고 있는 ‘극자외선 신노광기술(EUV litho) 공정’ 양산화가 올해 가시화되는 등 미래 성장전망도 좋은 편이다. 에프에스티가 연구개발중인 EUV litho공정은 인텔, 삼성의 ASML 투자로 무어의 법칙 연장에 필수적인 향후 반도체 기술의 핵심으로 부각되고 있다.

앞서 에프에스티는 차세대 반도체 노광 공정인 EUV Litho의 인프라(Infrastructure)용 광원인 EUVO를 개발, 국내 기업 및 대학에 EUV Metrology용 광원으로 판매했고, 국내외 EUV 전문기관에서 좋은 평가를 받은 바 있다. EUVO는 EUV 광을 제공하는 세계최고 품질의 EUV 인프라용 광원으로 지식경제부가 선정하는 2012 세계일류상품에 ‘차세대 세계 일류상품’으로 선정되기도 했다.