- 2030년까지 R&D 73조원, 생산시설 60조원 총 133조원 투자 - R&Dㆍ제조 전문인력 1만5000명 채용…42만명 간접 고용 효과 예상

[헤럴드경제=이태형 기자] 삼성전자가 메모리반도체에 이어 시스템 반도체 분야에서도 글로벌 1위를 달성하기 위해 2030년까지 시스템 반도체 분야 연구개발과 생산시설 확충에 133조원을 투자하고, 전문인력 1만5000명을 채용한다.

삼성전자는 24일 발표한 ‘반도체 비전 2030’을 통해 시스템 반도체 인프라와 기술력을 공유해 팹리스(Fabless, 반도체 설계 전문업체), 디자인하우스(Design House, 설계 서비스 기업) 등 국내 시스템 반도체 생태계의 경쟁력을 강화할 방침이라며 이같이 밝혔다.

삼성전자는 시스템 반도체 사업경쟁력 강화를 위해 2030년까지 국내 R&D 분야에 73조원, 최첨단 생산 인프라에 60조원을 투자한다.

R&D 투자금액이 73조원 규모에 달해 국내 시스템 반도체 연구개발 인력 양성에 기여할 것으로 기대된다. 생산시설 확충에도 60조원이 투자돼 국내 설비ㆍ소재 업체를 포함한 시스템 반도체 생태계 발전에도 긍정적인 영향이 예상된다.

삼성전자의 이 같은 계획이 실행되면 2030년까지 연평균 11조원의 R&D 및 시설투자가 집행되고, 생산량이 증가함에 따라 42만명의 간접 고용유발 효과가 발생할 것으로 예상된다.

삼성전자는 이와 함께 국내 중소 반도체업체와의 협력을 통해 국내 시스템 반도체 산업생태계를 강화하기 위한 방안도 마련했다.

국내 중소 팹리스 고객들이 제품 경쟁력을 강화하고 개발기간도 단축할 수 있도록 인터페이스IP, 아날로그 IP, 시큐리티(Security) IP 등 삼성전자가 개발한 IP(Intellectual Property, 설계자산)를 호혜적으로 지원한다.

국내 중소 팹리스 업체의 개발활동에 필수적인 MPW(Multi-Project Wafer, 웨이퍼 하나에 여러 종류의 칩을 생산해 테스트하는 것) 프로그램을 공정당 년 2~3회로 확대 운영하는 한편, 국내 디자인하우스 업체와의 외주협력도 확대해 나갈 계획이다.


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