재료연구원, 파인텍에 기술 이전

반도체공정 오염물질 제거 탁월

한국재료연구원 세라믹재료연구본부 송인혁(사진) 박사 연구팀이 반도체 공정 오염물질을 효과적으로 제거하는 ‘10나노미터급 세라믹 분리막 제조 기술’을 개발하고 파인텍에 기술이전했다.

일반적인 고분자 분리막은 열적, 화학적 안정성이 낮아 응용 범위가 제한된다는 단점을 갖는다. 재료연이 개발한 세라믹 분리막은 이러한 단점을 모두 보완한 새로운 압출형 분리막이다. 반도체·전자산업용 폐수처리를 1차 목표로 제조 전 공정에 걸쳐 요구되는 산업용수를 목표 수질에 알맞게 공급하기 위해 개발됐다. 기존 수처리 기술로 제거가 어려운 오염물질과 폐슬러지를 10나노미터급 세라믹 분리막을 이용해 효과적으로 제거할 수 있다.

향후 수처리뿐만 아니라 증류, 흡착, 추출 등의 대체기술로써, 고온, 고압, 산·염기, 유기용매 환경의 반도체, 제약, 식품, 제지, 발전 등 다양한 극한 운용 조건을 요구하는 시장으로까지 영역 확대가 가능하다.

파인텍은 이번 기술이전을 통해 해외 기업 주도 기술을 국산화하고, 신뢰성, 친환경성, 양산성, 효율성에 초점을 맞춰 신제품 개발 및 국내외 시장 점유율을 단계적으로 확대할 계획이다. 오는 2025년 양산라인 구축을 목표로 하고 있다.

송인혁 박사는 “10나노미터급 세라믹 분리막 제조 원천기술을 개발하고 실용화 가능성을 열었다는 데 큰 의미가 있다”라며 “향후 산업 및 생활 폐수뿐만 아니라 화학, 바이오, 제약 산업, 자원 회수 등 다양한 전략 핵심 분야에 활용될 요소기술로 적용될 수 있을 것으로 기대한다”고 말했다. 구본혁 기자


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