삼성전자 재직 당시 EUV 기술 유출 혐의

첨단 반도체 생산 핵심 노광 공정 정보

공소청, 산업기술보호법 위반 혐의 적용

구속영장 기각에 불구속 상태로 기소

삼성전자
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[헤럴드경제=서지연 기자] 삼성전자 재직 당시 첨단 반도체 생산에 사용되는 극자외선(EUV) 공정 핵심 기술을 무단으로 유출한 혐의를 받는 국내 유명 대학 산학협력단 연구원이 재판에 넘겨졌다.

27일 법조계에 따르면 서울중앙지방공소청 중대범죄기소5부(박경택 부장검사)는 전날 국내 유명 대학 산학협력단 소속 연구원 A씨를 산업기술보호법 위반 혐의로 불구속기소 했다.

A씨는 삼성전자에 근무하던 당시 회사가 보유한 EUV 노광 공정의 핵심 기술 정보를 무단으로 유출한 혐의를 받고 있다.

EUV는 극도로 짧은 파장의 빛을 이용해 반도체 원판인 웨이퍼에 미세한 회로를 새기는 기술이다. 회로를 더욱 정밀하게 구현할 수 있어 첨단 반도체 생산의 핵심 공정으로 꼽힌다.

특히 반도체 회로의 미세화가 진행될수록 EUV 공정의 중요성이 커지는 만큼 관련 기술 정보는 반도체 기업의 경쟁력을 좌우하는 주요 자산으로 평가된다.

앞서 공소청은 유출된 기술의 중요성 등을 고려해 A씨에 대한 구속영장을 청구했으나 법원에서 기각됐다.

이에 공소청은 A씨를 불구속 상태로 재판에 넘겼다.

A씨의 구체적인 기술 유출 경위와 유출된 정보의 범위 등은 향후 재판 과정에서 다뤄질 전망이다.

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