곽노정 SK하이닉스 사장이 지난 2일 서울 성북구 고려대학교에서 ‘메모리 반도체의 비전과 인재 육성’이라는 주제로 특별강연을 진행하고 있다. [SK하이닉스 제공]

[헤럴드경제=김민지 기자] 곽노정 SK하이닉스 대표이사 사장이 첨단기술 발달에 메모리가 지속 성장할 것이라고 전망하며, 고객별 맞춤형 ‘시그니처 메모리’로 미래 기술을 선도하겠다고 강조했다.

곽노정 사장은 지난 2일 서울 성북구 고려대학교 서울캠퍼스에서 ‘메모리 반도체의 비전과 인재 육성’이라는 주제로 특별강연을 진행했다. 이날 강연장에는 곽 사장의 강연을 듣기 위해 몰린 학생들로 인산인해를 이뤘다. 450여석의 좌석이 꽉 찼고, 자리가 없어 통로 바닥에 앉거나 서서 듣는 학생들도 상당했다.

이날 곽 사장은 “고객별로 다양해지는 요구를 만족시킬 수 있는 SK하이닉스만의 ‘시그니처 메모리’를 만들어 갈 것“이라며 “이처럼 기존과는 차별화된 기술을 이루어내는 주체는 결국 사람이기 때문에, 회사는 인재 육성을 최우선 과제로 보고 꾸준히 힘을 쏟겠다”고 강조했다.

고려대는 그의 모교이기도 하다. 곽 사장은 고려대 재료공학과를 졸업하고 대학원 재료공학 석사, 박사를 취득했다.

그는 현재 4차 산업혁명 시대의 핵심 인프라가 바로 반도체임을 강조했다.

곽 사장은 “인터넷부터 모바일, 빅데이터, 클라우드, AI와 같은 수많은 첨단기술에 메모리 반도체가 핵심적인 역할을 한다”며 “앞으로 기술 발전 속도가 높아지면서 메모리 시장은 꾸준히 우상향하며 성장할 것”이라고 말했다.

그러면서 “챗GPT가 등장하면서 생성형 AI가 뜨거운 화두로 떠올랐고, 향후에도 생성형 AI 시장은 급속도로 성장할 것으로 전망된다”며 “이런 흐름 속에서 메모리 반도체 고객들은 자신들의 필요에 부합하는 최적화된 스펙의 메모리를 요구하게 될 것이고, 이에 맞춰 그동안 범용제품으로 인식돼온 메모리가 앞으로는 고객별 차별화된 기술로 진화해갈 것”이라고 말했다.

D램과 낸드 분야에서 진행해오고 있는 기술 혁신에 대해서도 언급했다.

곽 사장은 “현재는 선폭 10nm(나노미터)의 한계를 극복하기 위한 경쟁을 하고 있는데, SK하이닉스는 공정 미세화와 함께 3D D램 기술을 동시에 준비하고 있다”며 “또 완전히 새로운 D램 셀 구조로의 전환도 고려하고 있는데, 대안 중 하나는 D램에 낸드의 적층 기술을 적용하는 것”이라고 말했다.

낸드 제품에 대해서는 “앞으로는 500단 이후가 어려운 도전이 될 것으로 보임에 따라, 더 높게 쌓기 위한 기술과 함께 측면 스케일링(Scaling)에 필요한 웨이퍼 본딩(Wafer Bonding) 기술 개발도 병행 중”이라며 “쌓기만 하는 데는 한계가 있어 데이터 저장 방식을 TLC(Triple Level Cell)에서 QLC(Quad Level Cell), PLC(Penta Level Cell)와 같이 다중 저장 방식으로 전환하기 위한 기술도 대안으로 검토하고 있다”고 말했다.

미래의 반도체 인재들을 위한 조언도 건냈다.

곽 사장은 “회사에 다니다 보니 일이 없는 것보다는 많은 게 낫더라”며 “일이라는 건 여러분의 능력을 드러낼 수 있는 기회이기 때문에, 워커홀릭까지는 아니지만 일에 적극적으로 임하면 좋겠다”고 조언을 건냈다.

또한, 디테일에 대한 중요성을 강조하며 “반도체 공정에서 뭔가 하나가 망가지면 돈으로 따지면 수백억 이상의 어마어마한 손해를 보게 된다”며 “숫자에 꼼꼼해져야 하고, 항상 교차체크하는 게 일상화돼야 한다”고 강조했다.