[헤럴드경제(대전)=이권형 기자] 특허청(청장 성윤모)과 한국특허전략개발원(원장 변훈석)은 정부 연구개발(R&D) 사업을 통해 최근 5년(2012년~2016년)간 창출된 ‘특허 성과’의 조사ㆍ분석 결과를 발표했다.

분석 결과 2016년 국내 특허출원 3만 807건, 국내 특허등록 1만 6670건 등 정부 R&D로 창출된 특허의 양적 현황은 최근 5년 이래 가장 높은 수치를 나타냈다. 하지만, 정부 R&D 등록특허(2012년~2016년)의 질적 수준은 여전히 낮은 것으로 나타났다.

정부 R&D 국내 등록특허와 외국인 국내 등록특허를 비교한 결과, 우수특허(특허평가시스템의 9등급 평가결과 중 상위 3등급 특허) 비율은 약 60% 수준에 그쳤다.

또한, 해외 출원한 국가 수를 비교하더라도 외국인 국내특허에 비해 약 20% 수준에 불과했다. 국내 특허가 아닌 미국 등록특허를 대상으로 분석하더라도, 정부 R&D 미국 등록특허의 질적 수준은 6.1%에 그쳐 미국 연방 R&D 18.6%보다 미흡한 것으로 조사됐다.

정부 R&D 특허의 미흡한 질적 수준을 개선키 위해서는 해외 특허 확보를 위한 체계적인 지원이 필요한 것으로 나타났다. 해외출원이 있는 정부 R&D 특허는 전체 정부 R&D 특허보다 질적 수준과 특허기술 이전 비율이 약 2배 높았다.

특히, 대학의 특허 예산 규모는 특허의 질적 수준과 기술료에 큰 영향을 미치므로 각 대학별 적정 수준의 특허 예산 확보를 위한 제도적 개선이 필요한 것으로 나타났다. 특허 비용 지출 규모 상위그룹(1~20위)은 하위그룹(81위 이하)에 비해 우수특허 비율은 약 6배, 건당 기술료는 약 3배 이상 높았다.

또한, 공공기관은 오래 보유한 高연차 등록특허에 대한 정밀 진단을 통해 활용 가능한 유망 특허만을 선별하는 ‘보유특허 진단 체계’ 도입이 필요한 것으로 나타났다. 高연차 등록특허의 경우 특허 유지비용이 늘어나는 부담이 있지만, 우수특허는 특허 당 계약 금액이 크기 때문이다.

특허청은 이번 조사ㆍ분석 결과를 과학기술정보통신부 등 연구개발 부처에 제공해 국가 연구개발 전 과정에 특허성과 분석 결과가 활용되고 R&D 제도 개선에 반영될 수 있도록 지원할 예정이다.

특히, 올해에는 정부 R&D 특허성과 분석을 바탕으로 과학기술정보통신부와 함께 정부 R&D 과제-특허성과 간 연관성 검증 및 질적 수준 평가 방안 마련 등 질적 수준 제고를 위해 제도개선을 추진할 계획이다.

한편, 이번 특허성과 조사ㆍ분석 결과는 누구든지 확인할 수 있도록 1월 말에 특허청 홈페이지와 정부 R&D 특허성과 관리 시스템을 통해 공개할 예정이다.

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