[헤럴드생생뉴스] SK하이닉스와 일본 도시바는 19일 차세대 반도체 나노 공정 기술의 공동 개발 등 전방위 협력 체제를 구축하기로 합의했다.

또 양사 제휴에 따라 도시바가 SK하이닉스를 상대로 제기한 1조원대 손해배상 소송도 전격 취하하기로 했다.

도시바는 앞서 3월 메모리 반도체 기술 유출에 따른 손해를 배상하라며 SK하이닉스를 상대로 일본에서 1조1000억원 규모의 민사소송을 청구한 바 있다.

일본 검찰이 SK하이닉스 전 직원을 부정경쟁방지법 위반 혐의로 기소하자, SK하이닉스가 도시바의 정보를 활용했다며 소송을 제기한 것이었다.

SK하이닉스는 도시바에 2억7800만 달러(3050억원)를 지급하기로 하고 소송 취하에 합의했다.

SK하이닉스는 이날 도시바와 함께 나노임프린트 리소그래피(NIL) 기술 개발에 착수한다고 공시했다. NIL은 메모리 반도체 공정 미세화의 한계를 극복하는 차세대 기술이다.

반도체 메모리 공정이 더욱 미세화하는 가운데 미세 패턴을 구현하는 데 적합한 차세대 공정 기술로 평가받는다.

양사는 이날 각각 이사회를 열고 기술협력과 소송 취하 안건을 모두 승인했다.

SK하이닉스는 기존 반도체 부문의 특허 상호 라이선스 계약 및 제품 공급 계약도 연장하기로 했다.

양사는 공정 미세화 기술 대응으로 메모리 반도체 부문의 선두권 업체 입지를 강화할 것으로 보인다.

SK하이닉스는 D램 시장에서 글로벌 점유율 2위를 점하고 있고, 도시바는 낸드플래시 부문에서 시장 점유율 2위를 자리를 유지하고 있다.

SK하이닉스와 도시바는 소송 제기 이전까지 오랫동안 협력관계를 유지해왔다. 양사는 지난 2007년에는 특허 라이선스 계약을 체결했고 2011년부터는 차세대 메모리인 STT-M램의 공동개발을 진행하기도 했다.

결국 반도체 기술 유출 소송 건으로 갈등을 빚기는 했지만 이번 협력체제 구축과 양사 제휴를 통해 이전의 관계를 회복한 셈이다.

SK하이닉스는 “도시바와의 전방위적 협력으로 기술 경쟁력을 강화하고 잠재적인 경영 불확실성을 해소하게 됐다”고 말했다.

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