[헤럴드경제=하남현 기자] 정부와 국내 반도체기업들이 손잡고 반도체 소재 원천기술 개발에 나선다.

산업통상자원부는 20일 삼성전자, SK하이닉스, 오로스테크놀로지, 넥스틴, 테스 등 5개 반도체기업과 미래 반도체소재 기술 개발에 올해부터 5년간 매년 30억원씩, 총 150억원을 공동 투자한다는 내용의 양해각서(MOU)를 체결했다.

이번 사업은 반도체분야 차세대 기술 개발 2단계 사업이다. 대상은 반도체 소재와 검사ㆍ측정, 공정 관련 원천기술이다.

지난해에 시작돼 2017년까지 250억원(연 50억원)이 투입되는 1단계 사업은 반도체 소자 기술 개발 중심이다. 2단계 사업은 그 범위를 크게 넓혔다.

대기업 위주로 추진되는 1단계 사업과 달리 오로스테크놀로지 등 중소 장비업체도 참여했다.

투자금은 정부와 업계가 절반씩 부담하기로 했다.

업계에서는 삼성전자가 7억5000만원, SK하이닉스 5억원을 각각 투자하고 나머지 3개 업체가 1억원씩 투입한다. 1ㆍ2단계 사업을 합하면 올해에만 80억원이 투자된다.

국내 반도체산업은 일본을 제치고 세계 시장점유율 2위에 올라서는 등의 성과를 보였으나 원천기술은 취약한 편이다.

최근 들어서는 대기업의 중장기 투자 소홀로 대학, 연구소의 반도체 원천기술 개발 기능이 크게 약화했다는 위기의식이 업계 전반에 폭넓게 자리 잡은 상황이다.

산업부 관계자는 “일본 사례에서 보듯 세계적인 역량을 보유하더라도 지속적인 혁신기술 개발이 없으면 언젠가는 경쟁국에 추월당할 수 있다”며 “핵심기술 역량을 한 단계 끌어올려 반도체의 안정적 성장 기반을 구축할 것”이라고 강조했다.

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