국내 연구진은 물체가 갈라지는 균열 현상을 이용해 나노구조물을 손쉽게 만들 수 있는 기술을 개발, 이 연구 결과가 10일 ‘네이처’ 최신호에 표지 논문으로 실렸다.남구현 이화여대 초기우주과학기술연구소 교수와 고승환 카이스트 기계공학과 교수는 “최첨단 반도체 기술인 전자빔식각으로도 제작하기 어려운 지름 10㎚(나노미터ㆍ1㎚는 10억분의 1m)의 나노구조물을 균열 현상으로 만드는데 성공했다”고 지난 9일 밝혔다.
남 교수는 “노치와 계단형 구조물의 위치와 방향, 거리를 조절하면 원하는 나노구조물을 만들 수 있다”고 설명했다.
연구팀은 이 방법을 사용하면 전자빔식각과 비교했을 때 나노구조물 제조시간을 수개월에서 수 시간으로 줄이고, 비용도 수천만원에서 수만원대로 낮출 수 있다고 설명했다. 이렇게 만든 나노구조물은 미량의 혈흔만으로 신원확인이 가능한 DNA칩 등에 쓸 수 있다.
남 교수의 이 연구성과는 재료공학의 오랜 난제를 해결했다는 평가를 받으며 표지논문으로 게재됐다.
국내 연구자들로만 작성한 논문이 네이처 표지에 오른 것은 처음이다.
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