참엔지니어링(009310)은 마스크 리페어 장치에 관한 특허권을 취득했다고 23일 공시했다.

회사측은 “이번 특허는 소정의 패턴이 형성되어 있는 반도체 또는 평판 디스플레이 제조용 마스크 상의 이물질을 레이저로 조사하고, 4개의 동작축을 갖는 니들을 이용하여 잔류 물질을 파내서 (digging) 제거하는 장치”라고 설명했다.