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  • ‘D램 반도체’ 국가핵심기술 중국으로 유출…검찰, 17명 기소
SK하이닉스·삼성전자 등 반도체 주요 기술 중국에 누설
檢, “국가핵심기술, 첨단 기술 국외 유출 사범 엄정대응”
서울 서초구 서울중앙지검 앞 모습. [연합]

[헤럴드경제=박상현 기자] 검찰이 국내 유명 반도체 업체의 제조 및 세정 관련 기술을 중국으로 유출한 혐의로 반도체 장비업체 직원과 법인 등 17명을 재판에 넘겼다.

서울중앙지검 영업비밀유출·정보통신범죄전담부(부장 조상원)는 26일 국가정보원 산업기밀보호센터와 공조한 ‘D램 반도체 관련 국가핵심기술·첨단기술 국외 유출 사건’의 수사 결과를 발표했다.

검찰은 D램 반도체 제조업체 SK하이닉스의 반도체 제조 및 세정 관련 기술을 중국 경쟁업체에 유출한 반도체 장비업체 A사의 연구소장 임모(51)씨와 영업그룹장 박모(47)씨를 부정경쟁방지법위반(영업비밀국외누설 등) 등 혐의로 이날 구속기소 했다. 아울러 A사의 부사장 B(56)씨와 품질그룹장 C(50)씨 등 7명과 A사 법인 등을 산업기술보호법위반 혐의로 재판에 넘겼다.

앞서 검찰은 삼성전자의 자회사인 반도체 장비업체 세메스(SEMES)의 반도체 세정장비 관련 첨단기술을 취득해 중국 수출용 반도체 장비 개발에 사용한 A사의 공장장 김모(45)씨, 협력업체 대표 김모(41)씨를 지난해 12월 11일 구속기소 했다. 이후 검찰은 같은 달 30일 A사의 공정그룹장 윤모(53)씨도 산업기술보호법 위반 등 혐의로 구속기소 하고, 세메스의 전직 직원 등 4명을 지난해 12월 30일 불구속 기소했다.

검찰에 따르면 임 연구소장 등은 2018년 8월부터 지난해 6월까지 반도체 관련 국가핵심기술과 첨단 기술 및 영업 비밀을 중국 반도체·컨설팅 업체에 몰래 전달한 혐의를 받는다. 이들이 전한 내용은 SK하이닉스의 HKMG(High-K Metal Gate) 반도체 제조 기술 및 반도체 세정 레시피 등으로 파악됐다. HKMG란 D램 반도체의 성능 향상을 위해 전도율이 높은 신소재인 하이 케이 메탈(High-K Metal)을 사용한 최신 반도체 제조 공정 기술이다.

김 공장장 등은 2017년 3월부터 지난해 8월까지 삼성전자와 세메스의 전직 직원 등으로부터 반도체 관련 첨단 기술 및 영업 비밀을 취득해, 수출용 반도체 세정장비 개발에 사용한 것으로 조사됐다. 이들이 취득한 기술은 세메스가 세계 최초로 개발한 최첨단 반도체 세정장비인 초임계 세정장비의 도면 등으로 확인됐다.

검찰은 지난해 7월과 10월 두 차례에 걸쳐 A사에 대한 압수수색에 나서는 등 수사를 통해 A사 관계자들의 범행 사실을 파악했다. 검찰 관계자는 “치밀한 수사를 통해 HKMG 반도체 제조 기술의 추가적인 국외 유출을 방지하고, 유출 기술을 사용해 제조한 반도체 초임계 세정장비의 중국 수출을 사전에 차단했다”고 설명했다. 검찰은 향후에도 기술 유출 사건 등 전문 분야 수사 역량을 강화하고, 반도체 산업 등 국내 기간 산업의 국가핵심기술, 첨단 기술 국외 유출 사범에 대해 엄정대응할 방침이다.

pooh@heraldcorp.com

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