초미세 파운드리 경쟁력 강화

삼성전자가 미국 텍사스에 있는 오스틴 반도체 공장에 10억 달러를 투자한다. 초미세 파운드리 공정에 초점을 맞춘 전략이다.

삼성전자 미주법인은 1일(현지시간) 모바일 기기 및 전자기기용 비메모리반도체 제품의 수요에 대응, 시스템 LSI 생산을 늘리기 위한 10억 달러 상당의 신규 투자를 내년에 집행하기로 결정했다고 밝혔다.

이번 투자는 삼성전자와 퀄컴, IBM 등이 ARM의 설계툴에 기반해 다양한 용도로 설계한 비메모리반도체를 위탁받아 생산하는 파운드리의 확장을 위한 것이다.

삼성전자는 올 하반기부터 천안과 수원 등에 위치한 반도체 공정을 이용, 세계에서 가장 정밀한 10나노 제품 양산을 시작하고 있다. 이는 경쟁 업체인 세계 최대 파운드리 기업 대만 TSMC나 미국의 인텔, 글로벌파운드리 등 보다도 1년여 빠른 것으로 평가된다.

업계에서는 이보다도 더 미세한 7나노 공정을 위한 주요 장비 주문도 삼성전자가 경쟁사 대비 한 발 앞서 마친 것으로 보고 있다. 메모리 반도체 시장에서 누리고 있는 앞도적인 경쟁력과 시장 점유율 우위를, 발 빠른 기술 투자와 과감한 생산 설비 확충을 통해 비메모리 파운드리 시장으로 이어가는 전략이다.

삼성전자는 이번 투자를 통해 늘어날 생산능력의 구체적인 것은 공개하지 않았다. 다만 규모 면에서 여전히 열세인 대만 TSMC 및 미국 인텔 등과 경쟁에서 오스틴 공장의 추가 투자를 통해 어느정도 균형을 찾을 것으로 기대했다.

삼성전자는 1997년 오픈한 오스틴 반도체공장에서 주로 비메모리 칩을 만드는 파운드리를 운영하고 있다. 그동안 삼성전자가 오스틴 공장에 투자한 금액은 약160억 달러가 넘는다. 미국 월스트리트저널은 “스마트폰 부품 생산 노력을 배가함으로써 최근 갤럭시 노트 7 리콜사태로부터 반등하려는 시도”라고 해석했다.

최정호 기자/choijh@heraldcorp.com