‘총액 3조~5조’ OLED A3라인 이르면 2분기부터 반영
2012ㆍ2013년에도 25조 계획 세웠지만 다 집행 못해

［헤럴드경제=신상윤 기자］최근 3년간 연 5% 미만으로 성장한 삼성전자의 시설 투자가 올해는 제법 큰 폭으로 늘어, 집행액이 25조원대에 달할 것으로 전망된다. 삼성전자는 2012년과 2013년 초에도 25조원의 시설 투자 계획을 세웠지만, 경기침체 등의 여파로 실제 집행액은 각각 22조8500억원(전년 대비 4.0% 증가), 23조7600억원(전년 대비 0.8% 증가)에 그쳤다.

21일 관련 업계에 따르면 삼성전자는 올해 1분기 시설 투자에 5조4000억원을 집행했다. 지난해 1분기(3조8800억원)와 비교하면 39.2% 늘어난 액수다. 사업별로는 반도체에 3조3000억원, 디스플레이에 7000억원이 투입됐다. 삼성전자는 지난달 29일 기업설명회에서 올해 시설투자 동향에 대해 “지난해와 비슷한 수준이 되겠고 사업별로도 큰 변동은 없을 것”이라고 전망했다.

그러나 지난달 말 삼성디스플레이 이사회에서 충남 아산 A3 신공장의 유기발광다이오드(OLED) 패널 라인 투자 계획이 확정됨에 따라 이르면 2분기부터 반영될 시설 투자 증액 요인이 될 것으로 예상된다. 삼성디스플레이의 시설 투자액은 연결기준으로 삼성전자 투자실적에 반영된다.

삼성디스플레이 관계자는 “전체적인 생산능력(capacity)은 패널 시장 상황을 봐야 하겠지만, (OLED 라인이) 내년 상반기 가동 목표인 만큼 하반기부터 본격적으로 투자액이 반영될 것”이라고 말했다.

A3 신공장의 OLED 라인 투자는 총액이 3조∼5조원대로 추정된다. 금융투자업계에서는 올해 집행될 1단계 투자액만 1조원대 후반 또는 2조원대 초반으로 보고 있다.

A3 OLED 라인에서 생산될 디스플레이 패널은 새로 선보인 기어핏 등 웨어러블 기기와 스마트폰에 쓰인다. 삼성전자는 콘퍼런스콜에서 “OLED 패널은 스마트워치, 태블릿 제품군 확대 등으로 수요가 꾸준히 증가할 것”이라고 내다봤다.

반도체 분야에서는 지난 9일 준공한 중국 시안(西安) 공장의 후공정라인을 비롯, 지속적인 투자 수요가 있을 것으로 보인다. 삼성전자는 시안 공장에 반도체 테스트와 패키징 라인을 깔아 일관 생산체제를 구축할 계획이다.

또 향후 반도체 분야의 중장기 성장을 이끌어갈 핵심 공정인 시스템 LSI(large scale integrated circuit) 14나노 공정이 올해 말 양산에 들어가는 등 관련 분야에 연중 투자 집행이 이어질 것으로 보인다. 시스템 LSI는 비베모리 반도체로, 스마트폰 애플리케이션 프로세서(AP), 디지털카메라 이미지센서, TV 디스플레이 구동 장치 등에 응용된다.

소비자가전(CE) 부문에서도 한국, 중국 중심의 거점을 베트남을 비롯해 10개국, 12개 해외 거점으로 확대하면서 투자 수요가 발생하고 있다.

삼성전자의 시설 투자는 이른바 반도체 치킨게임(공급과잉을 무릅쓰고 경쟁 기업이 파산할 때까지 밀어붙이는 식의 투자)이 종료되면서 지난 3년간 정체 양상을 보였다.

ken@heraldcorp.com