한국과 중국이 최초로 제1차 한ㆍ중 특허청장회담(1992년)을 개최한 이후 20년 만에 지재권분야 협력이 전면 확대된다.

특허청 2일 중국 북경에서 개최된 제17차 한ㆍ중 특허청장회담에서 중국 국가지식산권국 티앤리푸(TIAN Lipu(田力普)) 중국 특허청장과 한ㆍ중 특허심사하이웨이(PPH) 및 국제특허심사하이웨이(PCT-PPH)를 내년 3월 1일부터 실시키로 합의하는 양해각서를 체결했다.

이로써 국내기업은 양국간 PPH를 통해 중국에서 특허를 보다 빠르고 손쉽게 받을 수 있게 됐다. 중국의 지난해 특허출원은 약 39만건으로 일본을(약 34만건)을 추월해 특허분야에서 양적으로 G2로 부상한 만큼, 지재권분야에서 중국시장의 중요성이 부각되고 있는 시점에서 주목을 받고 있다.

특히, 이번 이수원 특허청장의 중국 방문은 한국과 중국의 지재권분야 협력을 행정부 이외에, 학계, 사법부까지 전면적으로 확대하는 계기가 될 것이라는 평가가 나오고 있다.

실제로 이 청장은 3일에는 한국과 중국의 관ㆍ학간 교류를 위해 중국의 지재권 관련 법제 개정 등을 주도적으로 이끄는 중국 인민대학교(지바오청 총장)와 양국간 지재권분야 공동연구, 교육훈련 분야 협력을 위한 MOU를 체결할 예정이며, ‘한국의 지재권제도와 경제발전’이라는 주제로 특별강연을 실시한다.

또한, 중국의 사법부까지 교류ㆍ협력을 확대키 위해 한국의 대법원에 해당하는 중국 최고인민법원의 지재권 총괄 부원장(씨샤오밍)과 면담을 갖고, 외국기업의 중국내 지재권보호에 대한 동향 및 한국기업의 애로사항에 대해 의견을 나눌 예정이다. 

<대전=이권형 기자/@sksrjqnrnl>kwonh@heraldcorp.com